| 超高真空光柵 | ||||||||||||||||||||||
| TONiC UHV | ||||||||||||||||||||||
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| 概述 | ||||||||||||||||||||||
| TONiC UHV直線光柵讀數(shù)頭與雷尼紹帶有IN-TRAC?光學(xué)零位的高精度直線柵尺兼容，包括RELM ZeroMet和RSLM不銹鋼因鋼柵尺。這些光柵系統(tǒng)在超高真空條件下提供保真度非常高的位置反饋。TONiC UHV直線光柵在2010年第二季度上市，用于高性能和可靠性要求極高的半導(dǎo)體和科學(xué)應(yīng)用。 | ||||||||||||||||||||||
| 高性能TONiC增量式讀數(shù)頭 | ||||||||||||||||||||||
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所有TONiC讀數(shù)頭均使用最新一代雷尼紹光學(xué)濾波系統(tǒng)，經(jīng)過(guò)優(yōu)化，噪聲超低。包括自動(dòng)增益控制 (AGC) 和自動(dòng)偏移量控制 (AOC) 在內(nèi)的動(dòng)態(tài)信號(hào)調(diào)整進(jìn)一步增強(qiáng)了先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)。因此，輸出信號(hào)具有無(wú)與倫比的信號(hào)純度，典型的細(xì)分誤差 (SDE) 為±30 nm，噪聲（抖動(dòng)）達(dá)0.51 nm RMS，分辨率達(dá)1 nm。 所有TONiC柵尺均包括直接嵌入到增益通道中的獨(dú)特IN-TRAC光學(xué)零位，只需單擊按鈕即可以方便地實(shí)現(xiàn)自動(dòng)電子調(diào)相 — 因此，這一功能也可遠(yuǎn)程執(zhí)行。IN-TRAC光學(xué)零位還具有在所有速度和整個(gè)工作溫度范圍內(nèi)保持相位一致的優(yōu)點(diǎn)。 |
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| 高精度真空兼容型柵尺 | ||||||||||||||||||||||
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RELM ZeroMet因鋼柵尺在最長(zhǎng)1 130 mm的距離內(nèi)，熱膨脹系數(shù)為“零”，總體精度可確保優(yōu)于±1 μm。RSLM不銹鋼柵尺集超高的精度與鋼帶柵尺的便利性于一體，有多種長(zhǎng)度可供選擇，最長(zhǎng)可達(dá)10 mm，是測(cè)量精度要求嚴(yán)格的較長(zhǎng)軸測(cè)量的理想解決方案。 TONiC UHV讀數(shù)頭由精選的低出氣率材料和粘合劑在指定的潔凈條件下制造而成。該產(chǎn)品封裝在一個(gè)真空兼容袋中以維持清潔 |
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| 殘留氣體分析 (RGA) 測(cè)試結(jié)果 | ||||||||||||||||||||||
| 通過(guò)獨(dú)立殘留氣體分析 (RGA) 測(cè)試證明整個(gè)系統(tǒng)適用于潔凈真空條件。它還適用于超真空中使用的120攝氏度的烘焙。典型應(yīng)用包括晶片處理、晶片檢測(cè)和科研。 | ||||||||||||||||||||||
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重要事項(xiàng)！ TONiC接口應(yīng)該置于UHV環(huán)境之外。
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